由于存在着后沉淀现象，需要控制沉淀物的玷污，其方法是（）。A、玷污随时间的延长而减少B、在较高的温度下，玷污较小C、只有在沉淀物生成后，加入杂质才会造成玷污D、在沉淀前，调节溶液的pH值可以控制玷污的发生E、改变沉淀剂的浓度可以控制玷污的发生

第1题：

第2题：

例举硅片制造厂房中的7种玷污源。

正确答案:硅片制造厂房中的七中沾污源：
（1）空气：净化级别标定了净化间的空气质量级别，它是由净化室空气中的颗粒尺寸和密度表征的；
（2）人：人是颗粒的产生者，人员持续不断的进出净化间，是净化间沾污的最大来源；
（3）厂房：为了是半导体制造在一个超洁净的环境中进行，有必要采用系统方法来控制净化间区域的输入和输出；
（4）水：需要大量高质量、超纯去离子水，城市用水含有大量的沾污以致不能用于硅片生产。去离子水是硅片生产中用得最多的化学品
（5）工艺用化学品：为了保证成功的器件成品率和性能，半导体工艺所用的液态化学品必须不含沾污；
（6）工艺气体：气体流经提纯器和气体过滤器以去除杂质和颗粒；
（7）生产设备：用来制造半导体硅片的生产设备是硅片生产中最大的颗粒来源。

第3题：

因为存在着后沉淀现象，所以沉淀物的沾污程度（）

• A、随时间的延长而减少
• B、在较高的温度下，沾污较少
• C、只要在沉淀物生成后加入杂质才会造成沾污
• D、在沉淀前，调节溶液的pH可以控制沾污的发生
• E、改变沉淀剂的浓度可以控制沾污的发生

正确答案:E

第4题：

玻璃电极在使用前一定要在水中浸泡几小时，目的是（）。

• A、清洗电极
• B、活化电极
• C、校正电极
• D、检查电极好坏
• E、除去玷污的杂质

正确答案:B

第5题：

对于pH计电极无机盐类玷污，可在0.1mol/L的（）溶液中浸泡几分钟，然后在蒸馏水中清洗。

• A、盐酸
• B、NaOH溶液
• C、酒精
• D、盐溶液

正确答案:A

第6题：

玷污是指含有胶质和易挥发成分的商品，在低温或高温等因素的影响下，引起部分物质的凝固，进而发生沉淀或膏体分离的现象。

正确答案:错误

第7题：

大米、面粉、木耳、食糖、饼干、茶叶、卷烟等商品，容易发生（）现象。

• A、破碎
• B、玷污
• C、沉淀
• D、串味

正确答案:B

第8题：

XPS能谱仪的样品台受到了玷污，清除玷污的方法是（）

• A、用水清洗
• B、用乙醇擦拭
• C、用酸碱清洗
• D、真空烘烤

正确答案:D

第9题：

第10题：

第11题：

第12题：

第13题：

第14题：

试述预处理生物样品时待测物的损失与玷污。 

正确答案:   在样品预处理过程中待测物的损失，是由容器的吸附、蛋白共沉淀、药物不稳定而产生化学降解或与重金属离子配合、衍生化反应不完全、浓缩过程中挥发等因素所致。样品的玷污问题，是由于生物样品内药物测定具有在复杂体系中测定痕量物质的特点，内源性和外源性污染将引起测量结果不可靠，误差变大。在通常实验环境中，所用器皿、材料（塑料、润滑油、滤纸、蒸馏水纯度等）、提取溶剂和衍生化试剂中夹杂的杂质、血样中脂肪酸及其酯类、人体的皮肤、手指接触容器所带入的杂质等都有可能玷污样品。以上这些问题严重时，会使整个测定毫无意义，甚至引起错误判断。

第15题：

作业完成后，要仔细检查服装，如有玷污或破损，需要（）装箱入库以备下次使用

正确答案:清洁和修复后

第16题：

玻璃电极在使用前一定要在水中浸泡二十四小时，其目的是（）。

• A、活化电极
• B、清洗电极
• C、校正电极
• D、除去玷污的杂质

正确答案:A

第17题：

重量分析中要求沉淀物纯净，（）。

• A、沉淀中不能含有水分子
• B、沉淀式与称量式完全一致
• C、沉淀为晶形沉淀
• D、避免杂质的玷污

正确答案:D

第18题：

文化用品中的复写纸、打字纸等商品易发生（）

• A、挥发
• B、熔化
• C、溶化
• D、玷污

正确答案:B

第19题：

《玷污美国国旗》的作者是（）

• A、福尔曼
• B、尤金·史密斯
• C、峰高秀
• D、肖恩

正确答案:D

第20题：

第21题：

第22题：

第23题：

第24题：