RO-5501采用的膜元件的型号是什么？进行在线清洗的条件是什么？
题目
RO-5501采用的膜元件的型号是什么？进行在线清洗的条件是什么？
相似考题
参考答案和解析
正确答案:
型号：BW30-400FR
R.O膜清洗的条件
R.O系统在运行中，出现下列现象之一者，RO膜需要进行化学清洗。
⑴产品水的膜透过量下降10-15%
⑵产品水的脱盐率降低10-15%
⑶膜的压力差（原水进水压力-浓水压力）增加10-15%
⑷已被证实有结垢或有污染现象。
但值得注意的是，RO膜的运行参数是受运行的压力、水温等各项条件的综合影响，所以RO膜是否需要化学清洗应综合认真考虑。
R.O膜清洗的条件
R.O系统在运行中，出现下列现象之一者，RO膜需要进行化学清洗。
⑴产品水的膜透过量下降10-15%
⑵产品水的脱盐率降低10-15%
⑶膜的压力差（原水进水压力-浓水压力）增加10-15%
⑷已被证实有结垢或有污染现象。
但值得注意的是，RO膜的运行参数是受运行的压力、水温等各项条件的综合影响，所以RO膜是否需要化学清洗应综合认真考虑。
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第1题：
工艺站场上采用的在线气体分析仪，“在线”是什么意思？
正确答案:“在线”的意思是随时采集、随时处理。 -
第2题：
对反渗透膜元件进行清洗的条件有哪些？
正确答案: 清洗条件应根据制造商提供的清洗导则进行，如果膜制造商未提供清洗导则，则应遵循下列原则，即凡具备下列条件之一的情况，均需要对膜元件进行清洗：
标准渗透水流量下降10%~15%.
标准系统压差增加10%~15%.
标准系统脱盐率下降1%~2%或产品水含盐量明显增加。
已证实有污染和结垢发生。 -
第3题：
离线清洗是指，从RO装置取出1支膜元件，采取独立的清洗装置进行后续清洗。
正确答案:正确 -
第4题：
那种情况下需要对反渗透系统膜元件进行清洗？
正确答案:一.正常出水流量下降10%。
二.产品水含盐量明显增加。
三.反渗透装置每段压差比运行初期增加15%。
四.已证实有污染或结垢产生。 -
第5题：
反渗透膜元件氧化后可以通过清洗进行恢复。
正确答案:错误 -
第6题：
上下填料管的清洗启动条件是什么？
正确答案:每班生产结束后对下灌注管进行手工刷洗，浸泡时没在双氧水液位以下、周护养做上填料清洗或受到污染随时清洗。 -
第7题：
地表水和污水往往会对在线监测仪表的传感元件造成污染，因此，在线监测仪表一般装有自动清洗装置，常用的自动清洗方法有（）。
- A、超声波清洗
- B、机械刷清洗
- C、水喷射清洗
- D、试剂清洗
正确答案:A,B,C,D -
第8题：
静态RAM和动态RAM的存储元件分别是什么？动态RAM为什么需要刷新？进行刷新需要外部提供什么条件？
正确答案:静态 RAM的存储元件是触发器，动态RAM的存储元件是电容。动态RAM的基本存储单元是靠电容上有无电荷表示存1或存0的。虽然基本存储单元中的MOS管是一种高阻抗器件，但不可能将阻抗做到无穷大，因此电容上的电荷经过一段时间就会泄漏掉，使“1”信息变成“0”，所以要周期性地进行信息重新写入，也就是要刷新。刷新一般采用“仅行地址有效”的方法，需要外部提供有效行地址，选中相应一行，同时，令列地址无效，即关闭所有的列选通管。刷新需由刷新控制器控制。 -
第9题：
膜污染的主要原因是什么？常用的清洗剂有哪些？如何选择？
正确答案: 1.凝胶极化引起的凝胶层，阻力为Rg；
2.溶质在膜表面的吸附层，阻力为Ras；
3.膜孔堵塞，阻力为Rp；
4.膜孔内的溶质吸附，阻力为Rap；
膜的清洗一般选用水、盐溶液、稀酸、稀碱、表面活性剂、络合剂、氧化剂和酶溶液等为清洗剂具体采用何种清洗剂要根据膜的性质（耐化学试剂的特性）和污染物的性质而定，即使用的清洗剂要具有良好的去污能力，同时又不能损害膜的过滤性能。 -
第10题：
简述反渗透膜元件清洗的原则？
正确答案: 1）标准渗透水量下降10%-15%；
2）标准系统压差增加10%-15%；
3）标准系统脱盐率下降达10%或产品水含盐量明显增加；
4）已证实发生了膜误污染和结垢；
5）日常维护一般在正常运行3-6个月后。 -
第11题：
问答题上下填料管的清洗启动条件是什么？正确答案： 每班生产结束后对下灌注管进行手工刷洗，浸泡时没在双氧水液位以下、周护养做上填料清洗或受到污染随时清洗。解析： 暂无解析 -
第12题：
问答题采用陶瓷加热元件对氧传感器进行加热的目的是什么？正确答案： 使传感元件二氧化钛温度保持恒定，从而使传感器的输出特性不受温度影响。解析： 暂无解析 -
第13题：
第一在线炉启动的初始条件是什么？状态跟踪又是什么？
正确答案: ①第一在线炉启动的初始条件有：克劳斯单元联锁复位；反应炉有火焰BZAL-5001/5002；反应炉空气流量FZLL-5037不低；反应炉空气压力PZHH-5006/5007/5008不高；反应炉空气压降PDZLL-5014不低；反应炉废热锅炉液位LZLL-5003不低；第一在线炉二个瓦斯阀关ZZAL-5020/5023；第一在线炉无火焰BZAL-5003；瓦斯罐液位LZHH-5008不高；瓦斯罐出口压力PZLL-5013不低；点火器缩回ZZAL-5019。
②第一在线炉启动的状态跟踪有：第一在线炉瓦斯流量调节器FIC-5012“手动”输出最小；第一在线炉空气流量调节器FIC-5013“手动”输出最小；装置切断阀开关（辅助操作台上）处于投用位置。 -
第14题：
采用LPCVD TEOS淀积的是什么膜？这层膜的优点是什么？
正确答案:多晶硅薄膜
用TEOS（正硅酸乙酯）-臭氧方法淀积SiO2 Si（C2H5O4）＋8O3 SiO2＋10H2O＋8CO2
优点：
A.低温淀积；
B.高的深宽比填隙能力；
C.避免硅片表面和边角损伤。 -
第15题：
采用铜试剂造膜的条件是什么？
正确答案: （1）采用铜试剂造膜，必须先将铜管进行清洗，使其表面清洁，对新铜管不需进行酸洗，但应采用1—2%Na3PO4溶液清洗一次，使铜管表面清洁。
（2）用凝结水配制0.3—0.4%的铜试剂溶液，使其通过铜管进行循环，每循环0.5小时，停留2小时，进行40小时后，将废液排掉。
（3）处理过程中，温度始终保持在55—60℃之间，PH维持在7—10之间。
（4）铜试剂处理完毕，在铜管的外侧加入70—80℃的热水，使管内保护膜烘干后可投入运行。 -
第16题：
第二在线炉启动的初始条件是什么？状态跟踪又是什么？
正确答案: ①第二在线炉启动的初始条件有：克劳斯单元联锁复位；反应炉有火焰BZAL-5001/5002；反应炉空气流量FZLL-5037不低；反应炉空气压力PZHH-5006/5007/5008不高；反应炉空气压降PDZLL-5014不低；反应炉废热锅炉液位LZLL-5003不低；第二在线炉二个瓦斯阀关ZZAL-5027/5030；第二在线炉无火焰BZAL-5004；瓦斯罐液位LZHH-5008不高；瓦斯罐出口压力PZLL-5013不低；点火器缩回ZZAL-5026。
②第二在线炉启动的状态跟踪有：第二在线炉瓦斯流量调节器FIC-5014“手动”输出最小；第二在线炉空气流量调节器FIC-5015“手动”输出最小；装置切断阀开关（辅助操作台上）处于投用位置。 -
第17题：
无菌罐的清洗启动条件是什么？清洗过程中酸碱浓度及温度各是多少？
正确答案: 生产酸性乳饮料时，储料时间超过66小时；生产纯牛奶时，储料时间超过48小时，无菌环境遭到破坏时，必须进行清洗。
清洗过程中碱洗85℃、30min，浓度1.5-2.0%；酸洗75℃、20min，浓度1.0-1.5%。 -
第18题：
反渗透装置应定期对膜元件进行（）。清洗程序采用（），然后用（）加以杀菌。
正确答案:化学清洗；先酸后碱或先碱后酸；1%的甲醛溶液 -
第19题：
在线水质监测仪表传感元件常用的自动清洗方法有（）。
- A、超声波清洗
- B、机械刷清洗
- C、水喷射清洗
- D、试剂清洗
正确答案:A,B,C,D -
第20题：
采用陶瓷加热元件对氧传感器进行加热的目的是什么？
正确答案:使传感元件二氧化钛温度保持恒定，从而使传感器的输出特性不受温度影响。 -
第21题：
高加的型号是什么？低加的型号是什么？
正确答案: 高加型号是：JG-530-2-1
低加型号：JD-350-1 -
第22题：
问答题晶闸管元件的导通条件是什么？正确答案： 晶闸管导通的条件是阳极承受正向电压，处于阻断状态的晶闸管，只有在门极加正向触发电压，才能使其导通。解析： 暂无解析 -
第23题：
填空题反渗透装置应定期对膜元件进行（）。清洗程序采用（），然后用（）加以杀菌。正确答案： 化学清洗,先酸后碱,1%的甲醛溶液解析： 暂无解析