覆盖是上颌牙盖过下颌牙的垂直距离,覆是上颌牙盖过下颌牙的水平距离
覆盖是上颌牙盖过下颌牙的水平距离,覆是上颌牙盖过下颌牙的垂直距离
覆盖是下颌牙盖过上颌牙的垂直距离,覆是下颌牙盖过下上颌牙的水平距离
覆盖是下颌牙盖过上颌牙的水平距离,覆是下颌牙盖过下上颌牙的垂直距离
覆盖是上颌牙盖过下颌牙的水平距离,覆是下颌牙盖过下上颌牙的垂直距离
第1题:
覆盖是指
A、牙尖交错时,上下前牙发生重叠的关系
B、牙尖交错时,上颌牙盖过下颌牙唇颊面的垂直距离
C、下颌前伸时,上下前牙切缘相对时下颌运动的距离
D、牙尖交错 时,上颌牙盖过下颌牙唇颊面的水平距离
E、前伸 位时,下前牙切缘超过上前牙切缘的水平距离
第2题:
第3题:
第4题:
第5题:
牙尖交错位时,其上颌切牙切缘位于下颌切牙唇面的切1/2内,应为()。
第6题:
由于上颌牙弓较下颌牙弓大,因而在牙尖交错时呈现覆和覆盖关系,临床上覆和覆盖是指()。
第7题:
患者,女性,15岁,主诉:牙列不齐,检查:磨牙关系远中尖对尖,上颌尖牙唇向错位,间隙不足,上牙弓拥挤约6mm,下牙弓拥挤4mm,前牙覆覆盖Ⅰ度,直面型。设计:拔牙矫治。此患者治疗过程中磨牙所采用的支抗类型应为()
第8题:
Ⅰ度深覆牙合
Ⅱ度深覆牙合
Ⅰ度深覆盖
Ⅱ度深覆盖
Ⅲ度深覆牙合
第9题:
Ⅰ度深覆
Ⅱ度深覆
Ⅰ度深覆盖
Ⅱ度深覆盖
Ⅲ度深覆
第10题:
Ⅰ度深覆
Ⅱ度深覆
Ⅰ度深覆盖
Ⅱ度深覆盖
Ⅲ度深覆
第11题:
下列关于牙尖交错(正中)解剖标志描述,不正确的是
A.一牙对两牙,牙尖交错接触
B.上、下牙列(牙弓)中线正对,并与上唇系带和人中一致
C.下颌尖牙的近中缘与上颌尖牙牙尖顶正对
D.上颌第一恒磨牙的近中颊尖与下颌第一恒磨牙颊面沟正对
E.上颌牙列(牙弓)的前牙超出下颌牙列(牙弓)的前端,并覆盖着下颌前牙冠
第12题:
第13题:
第14题:
牙尖交错位时,其上颌切牙切缘位于下颌切牙唇面的切1/2内,应为()
第15题:
牙尖交错位时,其上颌切牙切缘到下颌切牙唇面的距离是6mm,应为()。
第16题:
描述牙尖交错(正中)解剖标志哪项是错误的()。
第17题:
患者,女,15岁,恒牙,磨牙中性关系,上下牙弓Ⅱ°拥挤,口腔卫生差,牙石++,低角,深覆Ⅱ°,深覆盖Ⅱ°对此患者可以配合使用()
第18题:
上下颌强支抗
上下颌中度支抗
上颌强支抗,下颌弱度支抗
上颌中度支抗,下颌弱支抗
上下颌弱支抗
第19题:
Ⅰ度深覆牙合
Ⅱ度深覆牙合
Ⅰ度深覆盖
Ⅱ度深覆盖
Ⅲ度深覆牙合