一患者上颌局部义齿修复，义齿戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是（）A、不做处理，让患者把义齿戴走B、腭杆组织面加自凝树脂重衬C、腭杆组织面缓冲D、取下腭杆E、取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆

题目

一患者上颌局部义齿修复，义齿戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是（）

A、不做处理，让患者把义齿戴走
B、腭杆组织面加自凝树脂重衬
C、腭杆组织面缓冲
D、取下腭杆
E、取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆

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1.患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是A、取下腭杆B、腭杆组织面缓冲C、腭杆组织面加自凝树脂重衬D、不做任何处理E、取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆

2.一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭粘膜2mm。处理方法是A．不做处理，让患者将义齿戴走B．腭杆组织面加自凝树脂重衬C．腭杆组织面缓冲D．取下腭杆E．取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆

3.一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是( )。A、取下腭杆B、腭杆组织面缓冲C、腭杆组织面加自凝树脂重衬D、不做任何处理E、取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆

4.一患者上颁局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭粘膜2mm。处理方法是A．取下腭杆B．腭杆组织面加自凝树脂重衬C．不做处理，让患者将义齿戴走D．腭杆组织面缓冲E．取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆

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第1题：

一患者上颌局部义齿修复，义齿戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是

A.腭杆组织面缓冲
B.取下腭杆
C.取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
D.不做处理，让患者把义齿戴走
E.腭杆组织面加自凝树脂重衬

答案：C
解析：
第2题：

一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理办法是（）
- A、取下腭杆
- B、腭杆组织面做缓冲
- C、腭杆组织面加自凝树脂重衬
- D、不做任何处理
- E、取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
正确答案:E
第3题：

单选题
一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭粘膜2mm。处理方法为（　　）。
A
腭杆组织面加自凝树脂重衬
B
不做处理，让患者将义齿戴走
C
腭杆组织面缓冲
D
取下腭杆
E
取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆

正确答案： E
解析：
腭杆与粘膜间间隙过大，患者感觉不舒适，且容易嵌塞食物，应取下重新制作。
第4题：

单选题
一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是（　　）。
A
取下腭杆
B
腭杆组织面缓冲
C
腭杆组织面加自凝树脂重衬
D
不做任何处理
E
取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆

正确答案： B
解析：暂无解析
第5题：

一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭粘膜2mm.处理方法是（）
- A、不做处理，让患者将义齿戴走
- B、腭杆组织面加自凝树脂重衬
- C、腭杆组织面缓冲
- D、取下腭杆
- E、取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
正确答案:E
第6题：

一患者上颌局部义齿修复，义齿戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是（）
- A、不做处理，让患者把义齿戴走
- B、腭杆组织面加自凝树脂重衬
- C、腭杆组织面缓冲
- D、取下腭杆
- E、取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
正确答案:E
第7题：

单选题
一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭粘膜2mm.处理方法是（）
A
不做处理，让患者将义齿戴走
B
腭杆组织面加自凝树脂重衬
C
腭杆组织面缓冲
D
取下腭杆
E
取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆

正确答案： D
解析：暂无解析
第8题：

单选题
患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是（）
A
取下腭杆
B
腭杆组织面缓冲
C
腭杆组织面加自凝树脂重衬
D
不做任何处理
E
取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆

正确答案： B
解析：暂无解析

题目

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