关于自动曝光控制(AEC)的解释，错误的是A、根据被照体厚薄预先确定曝光量B、有电离室式探测器C、AEC的管电压特性与所用屏/片体系的管电压特性有关D、有半导体式探测器E、探测器的采光野位置应根据摄影部位选择

题目

关于自动曝光控制(AEC)的解释，错误的是

A、根据被照体厚薄预先确定曝光量

B、有电离室式探测器

C、AEC的管电压特性与所用屏/片体系的管电压特性有关

D、有半导体式探测器

E、探测器的采光野位置应根据摄影部位选择

相似考题

1.关于电离室控时自动曝光控制叙述错误的是A、利用气体的电离效应B、X线强度大时，电离电流大C、X线强度大时，曝光时间长D、电容充电电流与X线曝光量成反比E、电离电流小时，曝光时间长

2.关于自动曝光量控制(AEC)的叙述，错误的是A、被照体很薄时，AEC也可立即切断X线B、半导体、荧光体3种C、AEC的管电压特性与所用屏胶体系的管电压特性有关D、探测器置于屏胶体系之前还是之后，效果不一样E、形状、数量应根据摄影部位选择

3.下列关于自动曝光控制的叙述，错误的是A.可采用荧光体型探测器B.可采用电离室型探测器C.可减少人为条件选择不当的失误D.可自动切断X线的产生E.多在一钮制设备中使用

4.自动曝光控制系统，探测器的种类有A、液体探测器B、液体探测器C、电离室探测器D、晶体探测器E、金属探测器

更多“关于自动曝光控制(AEC)的解释,错误的是A、根据被照体厚薄预先确定曝光量B、有电离室式探测器C、AEC ”相关问题

  • 第1题：

    常规自动曝光摄影用的探测器是

    A.机械式

    B.电子式

    C.数字式

    D.电离室式

    E.闪烁晶体


    正确答案：D

  • 第2题：

    预曝光方式AEC的工作环节,错误的是()。

    A、根据压迫厚度设定条件

    B、进行一次15毫秒的预曝光

    C、探测乳腺的组织密度

    D、据此设定所需的mAs值

    E、正式曝光并自动终止


    答案：D

  • 第3题：

    关于自动曝光量控制(AEC)的叙述，错误的是

    A．被照体很薄时，AEC也可立即切断X线

    B．探测器有电离室式、半导体、荧光体三种

    C．AEC的管电压特性与所用屏胶体系的管电压特性有关

    D．探测器置于屏胶体系之前还是之后，效果不一样

    E．探测器的探测野位置、形状、数量应根据摄影部位选择


    正确答案：B
    B。自动曝光控时分为光电管自动曝光控时和电离室自动曝光控时两种方式。

  • 第4题：

    关于电离室控时自动曝光控制,下列叙述错误的是

    A.利用气体的电离效应

    B.X线强度大时，电离电流大

    C.X线强度大时，曝光时间长

    D.电容充电电流与X线曝光量呈反比

    E.电离电流小时，曝光时间长


    正确答案：D

  • 第5题：

    关于高千伏摄影选用设备及条件的叙述,错误的是

    A、选用150kV管电压的X线机

    B、选用低栅比滤线器

    C、选用密纹滤线栅

    D、可用空气间隙效应代替滤线栅

    E、采用自动曝光控制(AEC)


    参考答案：B

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