多晶硅薄膜的间接制备法是指先制备得到 晶硅薄膜,再通过不同的晶化技术,将其晶化为多晶硅薄膜。

题目

多晶硅薄膜的间接制备法是指先制备得到 晶硅薄膜,再通过不同的晶化技术,将其晶化为多晶硅薄膜。


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  • 第1题:

    薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD)所用的半导体材料中,目前使用最广泛、发展最成熟的是()。

    • A、非晶硅
    • B、单晶硅
    • C、多晶硅

    正确答案:A

  • 第2题:

    简述低温多晶硅薄膜晶体管特点。


    正确答案:1)高迁移率;
    2)容易p型和n型掺杂;
    3)自对准结构;
    4)抗光干扰能力强;
    5)抗电磁干扰能力强。

  • 第3题:

    简述非晶硅薄膜晶体管的工作原理。


    正确答案:当栅极上不加电压或加负电压时,在源到漏之间沟道没有形成,TFT处于关态。当栅极施加正电压到足够大,在绝缘层与a-Si:H层的界面附近,非晶硅半导体一侧感应出等量异号的负电荷形成电子的积累,形成导电沟道。当施加漏源加电压时就会有电流从沟道流动。

  • 第4题:

    单晶硅、多晶硅、非晶硅和铜铟镓硒薄膜电池等是太阳能()技术的最基本元件。

    • A、热能
    • B、光热发电
    • C、电磁辐射
    • D、光伏发电

    正确答案:D

  • 第5题:

    以下哪些是光伏发电的光伏材料?()

    • A、单晶硅
    • B、多晶硅
    • C、非晶硅
    • D、微晶硅

    正确答案:A,B,C,D

  • 第6题:

    简述非晶氢化氮化硅(α-SiNx:H)薄膜的优点及其制备工艺。


    正确答案: (1)H原子对硅材料中的体缺陷和晶界起到钝化作用,降低表面复合速度,进而提高VOC和ISC。
    (2)氮化硅还有良好的抗氧化、抗腐蚀和绝缘性能,以及良好的阻挡钠离子等金属离子和水蒸气的能力。
    (3)氮化硅膜具有很高的正电荷密度,3~4×1012cm-3,有利于N区多子通过。制备工艺:使用PECVD法制备。在反应炉内通入SiH4和NH3(或N2)气体,使它在硅晶表面产生一层非晶氮化硅减反膜,在减反膜里含有原子比例约为40℅的氢原子。

  • 第7题:

    异质基片上高品质叠层的多晶硅型薄膜技术有几种方法?


    正确答案: 目前广泛有:化学气相沉积法(CVD.、液相外延法(LPE.、固相结晶化法(SPC.

  • 第8题:

    薄膜电池分为:()和非晶硅薄膜电池。


    正确答案:多晶硅薄膜电池

  • 第9题:

    单选题
    在多晶硅薄膜制造装置中也可使用RTP,将得到的灯光用()聚光,然后缓慢地移动位置,使多晶硅薄膜再结晶化。
    A

    凸透镜

    B

    凹透镜

    C

    聚光镜

    D

    平光镜


    正确答案: B
    解析: 暂无解析

  • 第10题:

    单选题
    单晶硅、多晶硅、非晶硅和铜铟镓硒薄膜电池等是太阳能()技术的最基本元件。
    A

    热能

    B

    光热发电

    C

    电磁辐射

    D

    光伏发电


    正确答案: C
    解析: 暂无解析

  • 第11题:

    单选题
    集点矩阵层中包含的TFT是(  )。
    A

    薄膜晶体管

    B

    发光晶体管

    C

    非晶硒

    D

    非晶硅

    E

    氢化非晶硅


    正确答案: A
    解析:
    集点矩阵层中包含TFT(thin film transistor,薄膜晶体管)、储能电容。

  • 第12题:

    多选题
    用于太阳能电池的半导体材料有()
    A

    单晶硅

    B

    多晶硅

    C

    非晶硅

    D

    微晶硅


    正确答案: A,B,C
    解析: 暂无解析

  • 第13题:

    简述多晶硅薄膜晶体管驱动OLED的优点。


    正确答案:优点:1)具有较高的载流子迁移率;
    2)多晶硅TFT阈值电压漂移也要比非晶硅大大减小,稳定性高,更适合作为AMOLED显示的驱动器件;
    3)由于迁移率高,还可以减小TFT器件的尺寸,可以保证一样的开态电流,但像素开口率提高;
    4)容易制作出n沟道和p沟道的TFT器件,实现周边驱动的CMOS集成电路。

  • 第14题:

    简述低温多晶硅薄膜晶体管组成的CMOS驱动电路的优点。


    正确答案:组成的CMOS驱动电路的优点:
    1)利用自对准工艺,寄生电容降到最低,响应速度很快;
    2)较高的迁移率以及沟道长度的微细化,有利于进一步提高响应速度;
    3)在周边驱动的CMOS电路中,利用p-Si TFT高开态电流和高迁移率特性,不受关态泄漏电流的影响,使得p-Si TFT非常适合制作周边驱动电路;
    4)沟道长度微细化后,TFT尺寸缩小,周边驱动电路的面积缩小,非常适合高精度、高清晰的显示;
    5)在考虑漏极的耐压极限后,常规的p-Si TFT的沟道长度设计为4μm。采用LDD结构后,耐压能力提高,沟道长度可以设计到1.5~2μm。

  • 第15题:

    简述微晶硅薄膜晶体管中非晶硅薄膜上面有一层金属薄膜Mo的作用,以及工艺中需要采用的特殊技术?


    正确答案:金属Mo薄膜起到光热转换的作用,使薄膜晶化为微晶硅薄膜。晶化后进行金属MO层的光刻形成源漏电极。
    制作工艺流程是先进行有源岛位置处的Mo岛和Mo栅线的光刻,再溅射AlNd金属及光刻AlNd栅线。保证了金属线的低电阻率,又可以获得稳定、高结晶度的微晶硅薄膜,还能降低缺陷提高成品率。

  • 第16题:

    从不同技术路线市场份额看,()市场份额超过85%。

    • A、薄膜电池
    • B、聚光电池
    • C、晶体硅电池
    • D、非晶硅电池

    正确答案:C

  • 第17题:

    在多晶硅薄膜制造装置中可使用RTP,将得到的灯光用(),然后缓慢地移动位置,使多晶硅薄膜再结晶化。


    正确答案:聚光镜聚光

  • 第18题:

    铸造技术为何能提高多晶硅纯度;制备铸造多晶硅的工艺流程;描述直培法工艺;影响直培法制备柱形多晶硅的因素。


    正确答案: 提纯材料:
    1.利用定向凝固过程中的杂质分凝现象,使杂质富集在多晶硅锭的两端。
    2.在真空中熔化,凝固,原料中杂质在表面挥发。
    3.在保护气体或熔体中添加能与杂质反应生成挥发性物质的气体,是杂质中熔硅分离。直熔法工艺流程:装料---加热---熔化---晶体生长---退火---冷却。
    直培法描述:硅原材料首先在坩埚中熔化,坩埚周围的加热器保持坩埚上部温度的同时,自坩埚的底部开始逐渐降温,从而使坩埚底部的熔体首先结晶,再通过保持固液界面在同一水平面上并逐渐上升,使得整个熔体结晶为晶锭。采用定向凝固法长晶。影响因素:纯度高,不产生杂质玷污;不与晶体粘连;热膨胀系数小;热导率小;坩埚形状(方形,内壁涂高纯氧化硅/氮化硅)

  • 第19题:

    太阳能光伏发电的最基本元件有()

    • A、太阳能电池(片)
    • B、单晶硅
    • C、多晶硅
    • D、非晶硅
    • E、铜铟镓硒薄膜电池

    正确答案:A,B,C,D,E

  • 第20题:

    光伏电站的电池组件是()材料。

    • A、多晶硅
    • B、单晶硅
    • C、薄膜
    • D、砷化钾

    正确答案:A

  • 第21题:

    多选题
    以下哪些是光伏发电的光伏材料?()
    A

    单晶硅

    B

    多晶硅

    C

    非晶硅

    D

    微晶硅


    正确答案: C,D
    解析: 暂无解析

  • 第22题:

    单选题
    以下所列物质中哪种不是目前薄膜晶体管液晶显示器面板的TFT的半导体材料:()。
    A

    非晶硅(a-Si)

    B

    低温多晶硅(LTPS)

    C

    金属氧化物(Oxide)

    D

    单晶硅(Si)


    正确答案: D
    解析: 暂无解析

  • 第23题:

    单选题
    从不同技术路线市场份额看,()市场份额超过85%。
    A

    薄膜电池

    B

    聚光电池

    C

    晶体硅电池

    D

    非晶硅电池


    正确答案: B
    解析: 暂无解析

  • 第24题:

    单选题
    固相晶化是指非晶硅薄膜在一定的保护气中,在()摄氏度以上进行常规热处理。
    A

    300

    B

    400

    C

    500

    D

    600


    正确答案: B
    解析: 暂无解析